根据《中华人民共和国环境影响评价法》、《中华人民共和国行政许可法》、《建设项目环境影响评价政府信息公开指南(试行)》(环办【2013】103号)等有关规定,
(略)半导体用碳化硅/化学气相沉积碳化硅制品项目基本情况公示如下:
一、项目基本情况
项目名称:
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建设单位:
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建设地点:
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建设性质:新建
行业代码:C3985电子专用材料制造
项目投资:项目总投资12000万元,其中环保投资240万元,占项目总投资的2%。
劳动定员及工作制度:项目劳动定员40人,生产车间实行三班制,每班8小时。办公室实行单班制,每班8小时。每年工作300天。不设食堂和宿舍。
建设内容:租赁西创智能制造产业园内12栋厂房,用于生产半导体用碳化硅制品项目,总占地面积为2700m2,建筑面积3300m2,建设6个CVD化学气相沉积炉和3个纯化炉,安装1台1600KVA变压器。主要生产工艺为纯化、清洗、化学气相沉积、成品检测、包装等。项目建成后,实现年产6000片半导体用碳化硅制品的生产规模。
二、征求意见的公众范围
自厂界外延5km的
(略)域。
三、建设单位:
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建设单位:
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联系人:
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四、环评报告书编制单位:
(略)
编制单位:
(略)
联系人:
(略)
五、公众提出意见的方式:
(略)
公众可通过来信、面谈、发邮件等方式:
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六、公众提出意见的起止时间
自公示之日起10个工作日,公众可在本公示期间提出意见或建议。
七、
(略)址
(略).cn/xxgk2018/xxgk/xxgk01/201810/t
(略)_665329.html
附件1:专家评审意见-
(略)半导体用碳化硅化学气相沉积碳化硅制品项目环境影响报告书
(略),下载次数0附件2:报批稿-半导体用碳化硅制品项目环境影响评价报告书.docx27.2MB,下载次数0
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