高真空电阻蒸发镀膜机,EVD400

申购单号: CB102862024000343
成交总额： 180000.0
申购主题: EVD-400 镀膜机
送货时间： 发布竞价结果后7天内送达
采购单位： 东南大学
安装要求： 免费上门安装（含材料费）
竞价开始时间： 2024-03-25 09:10:38
收货地址： ******
竞价截至时间： 2024-04-03 17:50:14
币种： 人民币
付款方式： 货到验收合格后付款
备注说明：
质疑说明： 如果对成交结果有异议，请在发布成交结果之日起三个工作日内向采购单位提出质疑
采购项： 高真空电阻蒸发镀膜机, EVD400
数量： 1.0
品牌： None
型号： EVD400
单项预算： -1
成交总价： 180000.00
成交单价： 180000.00
成交供应商： 天津科瑞托科技有限公司
质保及售后服务： 按行业标准提供服务
技术参数： 1 真空腔室 结构：采用立式、方形前开门结构，方便取、放样品及真空腔室日常维护。 ②材料及尺寸：采用304优质不锈钢，L400×W440×H450mm；镀膜腔室（包括管道、连接法兰等）均进行清洁处理，内表面抛光，外表面电抛三项处理，以减少“出气”量，有利于真空度的提高及耐腐蚀。 ③主要接口装配位置： 腔室底部可拆卸蒸发源及挡板接口， 基片台、基片台加热器、及热电偶探头接口等从腔室顶部引入； DN200mm左侧置抽气口； DN10mm电磁放气阀腔室底部； 预留接口：四个（CF35,LF26），膜厚监控及拓展功能用； Φ80 mm观察窗， 配磁力档板 腔室防污屏蔽板，可拆卸 2 旋转升降加热基片台 基片台：不锈钢抽屉式结构，承载最大小于120×120mm基片；基片台可从基片架组件中取出，方便用户安装基片。配有气动基片台挡板；配标准基片台夹具，方便装卡不同规格的基片 基片台旋转：转速0-20 rpm；主轴磁流体密封； 基片台加热：最高加热温度300℃，采用1.5KW金属铠装加热器及金属反射板上整体安装于基片台背部对基片进行平行辐射加热，采用热电偶测温、PID智能温控仪控制；加热器加热范围大于基片外沿50mm，保证样片处于等温加热区内，控温精度±3℃。 基片台升降：可有效提高贵重材料利用率及膜厚（焊接波纹管密封，蒸发源到样品垂直蒸发距离260-330mm可调） 3 金属、有机蒸发源及电源 蒸发源及挡板接口圆周均布可拆卸安装板； 金属蒸发源：金属蒸发源采用铜水冷蒸发电极及舟式或锥形坩埚式，最高蒸发温度：室温~1300℃（真空状态）； 金属蒸发电源：功率3Kw，特点：电流通过逆变式调控，稳定可靠。电源可切换供2-4组电极分时蒸镀； 蒸发源源间配防污隔板。 蒸发源每组配独立挡板 蒸发源配件：金属蒸发源：钼、钨舟各50个； 4 真空系统 复合分子泵：FF200/1200,抽速1200 L/S 机械泵：TRP-36,抽速9L/S，内置挡油阀，合资品牌； 前级/旁路阀GDQ-J40 气动高真空挡板阀：GDQ- S200 放气阀：Φ6mm，电磁截止阀 真空测量：“两低一高”（两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空） 数显复合真空计， 测量范围从1×105Pa到1×10-5Pa； 波纹管、材质：SUS304不锈钢 真空密封：可拆静密封采用氟橡胶圈密封；不常拆静密封采用金属密封。 密封件、连接件及其附件 5 水路系统 水排：SUS304不锈钢，6进6出，保障循环供水到每个水冷部件； 水压继电器，总进水采用水压继电器检测供水及水压状态，执行异常报警。 6 气路系统 电接点压力表，用于气体压力不足报警 气路分配单元，用于各阀门之间分气使用 7 电气控制系统 电气控制系统采用PLC+触摸屏控制抽真空系统，可实现自动一键式抽真空，蒸发镀膜电源采用手动控制，以方便用户进行镀膜工艺参数的摸索； 控制内容：分子泵、机械泵、阀门开关；分子泵电源参数显示及开关控制；真空计参数显示及控制；基片台转速控制；基片加热温度控制等； 安全保护报警系统：在缺水、水压过低、电源过流、短路等异常情况执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统。 控制系统示意图： 8 易损件 常用密封圈备件及辅料 9 机架控制柜 整体式约L1710×W850×H1850一体化设计，只留前开门，铝型材及碳钢制作，表面喷塑处理，支撑真空腔体、真空系统及电气控制系统，底下配脚轮，方便移动、定位。